파운드리 속도내는 삼성전자…'5나노 공정' 개발
파운드리 속도내는 삼성전자…'5나노 공정' 개발
  • 허지은 기자
  • 승인 2019.04.16 11:00
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7나노·6나노 공정 이어 5나노 공정 개발 성공
업계 최초 7나노 제품 이달 중 출하 예정
6나노 제품도 연내 양산 계획
삼성전자가 극자외선(EUV) 기술을 기반으로 한 5나노미터(nm) 제품 개발에 성공하며 파운드리(반도체 수탁생산) 사업에 속도를 내고 있다. 사진은 경기도 화성에 위치한 삼성전자 화성캠퍼스 EUV 라인/사진=삼성전자
삼성전자가 극자외선(EUV) 기술을 기반으로 한 5나노미터(nm) 제품 개발에 성공하며 파운드리(반도체 수탁생산) 사업에 속도를 내고 있다. 사진은 경기도 화성에 위치한 삼성전자 화성캠퍼스 EUV 라인/사진=삼성전자

[한스경제=허지은 기자] 삼성전자가 극자외선(EUV) 기술을 기반으로 한 5나노미터(nm) 제품 개발에 성공하며 파운드리(반도체 수탁생산) 사업에 속도를 내고 있다. 이달 안에 업계 최초 7나노미터 제품 출하를 앞둔 삼성전자는 올해부터 6나노미터 제품 양산에 돌입하며 초미세공정 포트폴리오 확대에 나선다는 계획이다.

16일 삼성전자에 따르면 회사가 이번에 개발한 5나노 공정은 셀 설계 최적화를 통해 기존 7나노 공정 대비 로직 면적을 25% 줄일 수 있으며 전력 효율과 성능은 각각 20%, 10% 향상될 전망이다. 특히 7나노 공정에 적용된 설계 자산(IP)을 활용할 수 있어 기존 7나노 공정을 사용하는 이들은 5나노 공정의 설계 비용을 줄일 수 있다.

삼성전자는 7나노와 6나노 파운드리 공정에서도 속도를 내고 있다. 올해 초 업계 최초로 EUV 공정을 적용한 7나노 제품 양산을 시작한 삼성전자는 이달 중 해당 제품을 본격 출하할 계획이다.

EUV 기술은 기존 불화아르곤(ArF)보다 파장의 길이가 짧은 EUV 광원을 사용해 보다 세밀한 반도체 회로를 구현할 수 있는 것이 특징이다. 초미세 반도체 공정에 적합한 기술로 회로를 새기는 작업을 반복하는 멀티 패터닝 공정을 줄여 성능과 수율(완제품 비율)을 높일 수 있다.

삼성전자는 6나노 공정 기반 제품도 올해 하반기를 시작으로 연내 양산에 들어갈 계획이다.삼성전자 관계자는 “제품 설계가 완료되어 올해 하반기 양산할 예정”이라며 “대형 고객과 생산 협의를 진행하고 있다”고 밝혔다.

◆ 삼성전자 “공정 솔루션으로 반도체 산업 이끌 것”

현재 화성캠퍼스에 위치한 S3라인에서 EUV 기반 공정 제품을 생산하고 있다. 1장의 웨이퍼에 여러 종류의 반도체 제품을 생산하는 '멀티프로젝트 웨이퍼(MPW)) 서비스'와 삼성전자 파운드리 지원 프로그램인 'SAFE TM’ 등을 통해 공정 설계에서 디자인까지 다양한 서비스를 제공 중이다.

파운드리 사업은 반도체 장비, 소재, 디자인, 패키징, 테스트 등 다양한 전문 업체들이 함께 성장해야 하므로 전후방 연관 효과가 크다. 삼성전자의 생산 기술이 국내 팹리스(FabLess·100% 위탁 생산으로 반도체 제품을 생산하는 업체) 업체들에 큰 도움을 줄 수 있다는 게 삼성 측의 설명이다.

삼성전자는 올해 파운드리 사업을 미래 성장 동력으로 내걸고 있다. 지난 2017년 기준 삼성전자의 파운드리 시장 점유율은 7.3%다. TSMC와 미국 글로벌 파운드리(9.7%), 대만 UMC(7.8%)에 이어 세계 4위 수준이다. 그러나 올해는 파운드리 고객사를 전년 대비 40% 늘려 시장 점유율 확대에 나선다는 계획이다.

배영창 삼성전자 파운드리사업부 전략마케팅팀 부사장은 "삼성전자의 EUV 기반 최첨단 공정은 성능과 IP 등에서 다양한 강점을 가지고 있어 5G, AI, 전장 등 신규 응용처를 중심으로 높은 수요가 예상된다"며 "향후에도 첨단 공정 솔루션으로 미래 시스템 반도체 산업을 이끌어 나갈 것"이라고 밝혔다.